來源：中國国产精品免费福利樹脂網 2022-05-31 09:58:44
5月27日，旭化成宣布已與三（sān）井化學簽署了關（guān）於將旭化成光掩模薄膜業務轉讓給三井（jǐng）化學的（de）最終協議。旭化成計劃從三（sān）井化（huà）學獲（huò）得74億日元（yuán）（約3.9億人民幣）作為分離後的權利和義（yì）務的對價，最終金額將根據最終協議進行調整後確定。
此次轉讓包（bāo）括旭（xù）化成在日本、韓國、北美和中國製造、開（kāi）發和銷售光（guāng）掩模薄膜業務，以及受委托製造（zào）光掩（yǎn）模薄膜的Asahi Kasei的合並子公司（sī）Asahi Kasei EMS Co., Ltd. 的所有股份（業務），生效日期（qī）為2023年7月1日（預（yù）定）。
今後（hòu），三井化學將充分利用旭化成旗下的岩國大竹工廠和延岡工（gōng）廠（chǎng），整合和結合旭化成和三井化學積累的開發製造能力，謀（móu）劃進（jìn）一步的業務拓（tuò）展（zhǎn）和提升。
光掩模
光掩模（mó），也叫半導體光罩，是（shì）半導體光刻工藝中的高精密工具，主要由（yóu）基板和不透（tòu）光材料組成，起（qǐ）到光（guāng）刻機與大矽片的橋梁（liáng）和紐帶作用。
從規模看，光掩膜僅約占芯片總成本的13%，其價值（zhí）遠低於占比38%的矽片，關注度更是與矽片相去甚遠。但小小的光（guāng）掩膜價值卻（què）非比尋常，它不僅是芯片製造中必（bì）不可少的核心材料（liào）之一，其質量（liàng）的好壞更是直接決定芯片最終的（de）性能。
全球領先的光掩模製造商的總部也大多設在日本。據CSET預計，日本企業控製了53%的商業光掩模市場，美國企業占比40%，台灣企業占（zhàn）比（bǐ）7%。比如DNP、日本凸版印刷Toppan Photomasks兩家大廠都是日本廠商。
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